Patricia L. Schilardi
Los métodos litográficos suaves o blandos son rutas alternativas a las técnicas litográficas tradicionales. Las estrategias de moldeo y de replicación son ampliamente utilizadas debido a que son simples, de bajo costo y adecuadas para la fabricación a gran escala. Sin embargo, la mayoría de los métodos de litografía blanda se limitan a estructurar precursores o materiales poliméricos utilizando sellos de elastómeros (PDMS), silicio o cuarzo. En este proyecto utilizamos películas moleculares (alcanotioles, silanos) como capas antiadherentes el moldeo y la reproducción de alta resolución de materiales duros como metales, aleaciones y cerámicos. Este enfoque se basa en la deposición (electrodeposición, deposición física de fase vapor, ablación por láser, sputtering reactiv0) sobre sellos cubiertos por monocapas autoensambladas (SAM) de alcanotioles o silanos. Las SAMs permiten la transferencia directa de patrones superficiales con alta resolución desde el molde conductor a la cara interior de un metal, aleación u película de óxido depositada, produciéndose un desprendimiento fácil de la película depositada debido a sus excelentes propiedades anti-adherentes. Asimismo, se pueden obtener réplicas del patrón superficial original mediante un simple procedimiento de dos pasos.
En otro enfoque, utilizamos SAMs como «resist» para la formación de patrones en la microescala. En este caso, se coloca una máscara sobre la superficie sólida cubierta por la SAM y se expone a la radiación UV para oxidar la película orgánica. Los productos oxidados se eliminan por un simple lavado. Mediante este procedimiento se pueden producir micropatrones de diferentes materiales.
Las los patrones de SAMs luego se utilizan como plantillas para la formación de nanocristales y nanobandas.
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